新闻网讯 11月25日至12月5日，光电信息学院与未来技术学院联合ASML公司开设“集成电路光刻技术基础”课程，邀请多位ASML技术专家来校为学子讲授ASML全景光刻技术概况，推进产教融合，助力创新人才的培养。

课程第一周，高伟民从芯片的发展历程、光刻机的发展历程以及芯片工艺技术路径三个维度对集成电路及光刻机的发展进行全面而深入的介绍。韩沛文系统阐述了光刻系统架构，详细说明了产量、套刻精度等关键指标及设计要求，深入探讨了浸润式光刻与像差控制。秦晓琼着重讲解了光源调控与设计对曝光质量的重要影响。翟文桥深度剖析了光刻中边缘放置误差的分类与成因，重点介绍了ASML YieldStar光学量测仪器的工作原理。

课程第二周，周昂从理论层面深入分析了光刻系统极限分辨率与瑞利判据，并且对成像质量参数如何影响曝光效果展开了探讨。李智钦全面介绍了计算光刻，还提及了机器学习在其中的应用。饶江宇介绍了扫描电子显微镜的发展历程、仪器架构以及二次电子和背散射电子成像原理对比。王鸿从电子束的检测与量测两大方面展开，为整个系列讲座画上了圆满的句号。

光电信息学院以培养前沿人才为核心目标，积极探索个性化、创新化、卓越化的人才培养新路径。自2023年以来，依托学院及武汉光电国家研究中心的优势科研团队，先后开设27门光电前沿选修课，初步构建起“产业驱动、科技引领、学创融合、本研贯通”的光电特色专业选修课程体系。同时，学院与多家行业龙头企业紧密合作，结合高校的理论研究与人才培养优势，以及企业的前沿技术与实践经验，助力创新人才培养。