新闻网讯 10月29日至31日，由国际先进材料协会（International Association of Advanced Materials, IAAM）主办的第62届国际先进材料大会（Advanced Materials Congress）在瑞典首都斯德哥尔摩举办。我校武汉光电国家研究中心高辉副教授获得由大会授予的年度青年科学家奖（IAAM YoungScientistAward），以表彰其在光学超构材料、超构表面领域做出的贡献，并应大会主席Ashutosh Tiwari博士邀请，在国际先进材料学会会士峰会（IAAM Fellow Summit）作先进材料专题报告（Advanced Materials Lecture）。

国际先进材料协会（IAAM）是全球先进材料领域著名国际性学术组织，总部设在瑞典。协会聚集了世界范围内材料科学与技术领域优秀科学家，致力于为先进材料科学、工程和技术在世界范围内的快速发展提供高水平学术交流平台，是材料科学及前沿交叉领域各类学科领军人才的聚集地。“IAAM青年科学家奖”由协会在世界范围内进行评选，评选过程包括专家提名、被提名学者提交简历、IAAM学术委员会评审、线下或线上学术讲座、最终评议与颁发等多个环节，最终授予在材料科学、工程和技术等前沿领域作出突出贡献的青年科学家。

在本次会议上，高辉作题为“Optical Addressed Dynamic Meta-holography”的专题报告，介绍了团队在光学超构表面领域的最新研究成果。针对当前超构表面全息技术难以实现流畅动态显示的问题，团队创新性提出了基于光寻址的超构表面动态全息显示新策略，在显示帧率、可变帧数及信息容量等方面均取得了突破性进展，并将超构表面全息技术应用拓展到光通信、多维成像及激光加工等众多其他领域。

高辉近年来在微纳光学、微纳制造、全息显示领域开展了一系列开创性的研究工作，以第一/通讯作者在Sci. Adv.、Opto-Electron. Adv.、Int. J Extrem. Manuf.等知名国际期刊发表高水平研究论文近20篇（含ESI高被引论文1篇，封面论文2篇），入选全国优博、国家青年人才托举工程、2024斯坦福大学&爱思唯尔全球前2%顶尖科学家榜单，担任中国光学工程学会微纳专委会副秘书长、Opto-Electronics Advances、《中国激光》等期刊青年编委、中国仪器仪表学会科普专家/科普工作委员会委员等。